半导体纯水设备-瑞尔环保守护未来-半导体纯水设备定制

锅炉内如结有水垢，又要保持一定的出力(工作压力和蒸发量)，这样只有增加火侧的温度。因此水垢越厚，热导率越差，锅炉火侧的温度就得越高。

　　从试验所得数据可以看出，对于工作压力为1.4MPa的锅炉，火侧的温度在900~1200℃之间，水侧温度为197℃，未结水垢时的钢板温度，只有215~250℃。同样类型锅炉，锅板上结有0.8~1.0毫米的混合水垢时，钢板温度比无水垢时约134~160℃。当20#钢板达到315℃时，其力学性能开始下降，当达到450℃时，就会因过热而蠕变。因此水处理不好，锅炉生成水垢，是很容易使锅炉金属烧损。

制药纯化水处理设备工艺流程

　　原水进入原水箱贮存，再经由原水泵增压进入砂滤、碳滤器和软水器过滤，去除原水中的悬浮物、胶体、**物及余氯，降低水的硬度。过滤后的水进入过滤贮水箱，经过一级RO加压泵加压后进入一级反渗透系统，将水中的大部分盐分去除，达到提纯的目的，一级反渗透出水进入一级纯水贮水箱;再次经二级RO加压泵进入二级反渗透系统，进一步将水中的盐分去除，提升水的纯度。二级反渗透系统出水贮存在无菌纯化水箱内，半导体纯水设备，通过管路引至各用水点。

1、采用智能化仪表全自动控制，全自动运行，节省人工；

　　2、与介质接触部分使用抗腐蚀的工程塑料、不锈钢，抗腐蚀性能良好；

　　3、固体药剂采用干粉投加机投加，半导体纯水设备定制，投加量可调，保证药剂配比稳定；

　　4、控制箱设置故障报警，半导体纯水设备安装，并根据不同情况作出报警、自动手动切换、单机停止、系统停止等动作，保证设备安全运行；

　　5、整套设备采用三槽溢流式溶液操作系统，使设备结构简单、体积小、安装方便。适用于溶解和连续添加药剂的工艺流程。

　　6、系统采用多箱，保证分散、熟化。